GB/T 12963-2009 硅多晶

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基本信息
标准名称:硅多晶
英文名称:Specification for polycrystalline silicon
中标分类: 冶金 >> 半金属与半导体材料 >> 元素半导体材料
ICS分类: 电气工程 >> 半导体材料
发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期:2009-10-30
实施日期:2010-06-01
首发日期:1991-06-04
作废日期:
主管部门:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
提出单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会
归口单位:全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会
起草单位:峨眉半导体材料厂
起草人:罗莉萍、张辉坚、王炎
出版社:中国标准出版社
出版日期:2010-06-01
页数:8页
计划单号:20061662-T-469
适用范围

本标准规定了硅多晶的产品分类、技术要求、试验方法、检验规则以及标志、运输、贮存。
本标准适用于以三氯氢硅或四氯化硅用氢还原法制得的硅多晶。

前言

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引用标准

下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件,其随后所有的修改单(不包括勘误的内容)或修订版均不适用于本标准,然而,鼓励根据本标准达成协议的各方研究是否可使用这些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本适用于本标准。
GB/T1550 非本征半导体材料导电类型测试方法
GB/T1553 硅703505 0 -和锗体内少数载流子寿命测定光电导衰减法

所属分类: 冶金 半金属与半导体材料 元素半导体材料 电气工程 半导体材料
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基本信息
标准名称:缩微摄影技术 检验技术图纸缩微摄影质量测试标板的制作
英文名称:Micrographics; Manufacture of test target for inspecting the quality of micrography of technical drawings
中标分类: 综合 >> 经济、文化 >> 图书馆、档案、文献与情报工作
ICS分类: 成像技术 >> 文献成象技术
替代情况:被GB/T 17739.2-2006代替
发布部门:国家标准局
发布日期:1988-04-11
实施日期:1988-12-01
首发日期:1900-01-01
作废日期:2007-02-01
主管部门:国家标准化管理委员会
归口单位: 全国文献影像技术标准化技术委员会
起草单位:北京信息光学仪器研究所
出版社:中国标准出版社
出版日期:1988-12-01
页数:2页
适用范围

本标准规定了检验技术图纸缩微摄影持量测试标板的制作方法及材料要求。测试标板适用于检验缩微摄影解像力和清晰度。

前言

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引用标准

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所属分类: 综合 经济 文化 图书馆 档案 文献与情报工作 成像技术 文献成象技术
【英文标准名称】:IECpluggaugesforlampholders;"go"gaugeforGX5,3lampholders
【原文标准名称】:IEC灯座量规.GX5.3灯座用"过端"量规
【标准号】:DIN49646-31-1991
【标准状态】:作废
【国别】:德国
【发布日期】:1991-04
【实施或试行日期】:
【发布单位】:德国标准化学会(DIN)
【起草单位】:
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:过端量规;记录;IEC灯座量规;灯座;国际电工委员会(缩写);尺寸;量规;测量仪器;电气工程;检验;灯;使用;名称与符号;试验;公差;照明工程;灯座量规;照明系统
【英文主题词】:electricalengineering;lightingsystems;iecholdergauges;iec;applications;gauges;inspection;illuminationengineering;lampholdergauges;testing;tolerances(measurement);lamps;dimensions;lampholders;go
【摘要】:
【中国标准分类号】:J42;K95
【国际标准分类号】:29_140_10
【页数】:2P;A4
【正文语种】:德语